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    PVD真空镀膜设备-中频磁控离子镀膜机

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    PVD真空镀膜设备-中频磁控离子镀膜机

    PVD中频离子镀膜机|真空磁控溅射|AF镀膜设备-蒸发镀膜机-真空电镀致诚科技

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    PVD 是物理气相沉积的缩写。
    什么是真空镀膜设备PVD技术?
           PVD 是物理气相沉积的缩写,PVD是在真空状态下材料蒸发沉积的技术,真空腔室是必备的条件,以避免蒸发出的材料和空气反应,PVD涂层用来制备新的、具有额外价值和特点的产品,如绚丽的色彩、耐磨损能力和降低摩擦。利用物理气相沉积 (PVD) 工艺,通过冷凝大部分金属材料并与气体结合,如氮,形成涂层。 基体材料是从固态转化为气态,并如在电弧工艺中一样被接受到的热能电离,或者如在溅射工艺中一样由动能电离。PVD技术是环保无污染的,总体来讲,致诚真空专注于PVD硬膜(和PACVD涂层,见下章)。

    工艺基础 (PVD) 工艺特点:
    涂层厚度  0.5 – 10 µm 涂层结构 优点 典型应用
    涂层厚度  1,000 – 4,000 HV
    耐高温  300 – 1,150 °C  • 多层
     • 纳米复合涂层
     • 单层
     • 梯度涂层
     • 微合金层
     • 即使在较低的涂层温度下,也具有出色的涂层附着力
     • 产量高,适合批量生产
     • 不同的组件形状、大小和数量的灵活性
     • 低摩擦系数的强抗磨损保护
     • 优越的硬度、抗氧化性并降低了化学反应
     • 切削工具
     • 塑造、成型和锻造的初级工具
     • 塑料加工工具
     • 精密组件
    沉积温度  200 – 600 °C

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